三星将针对低良品率问题展开调查

　　从7nm制程节点开始，三星在工艺研发上就一直不顺利。在过去的两年里，无论5nm还是4nm工艺生产的芯片，无论效能还是良品率都存在较大问题。虽然三星已投入了大量资金，但良品率始终没有明显的改善，严重影响了其晶圆代工业务的订单交付，货物交收时间不断延后。

　　据Infostock Daily报道，鉴于半导体事业部门长久以来存在的问题，三星电子（Samsung Electronics）管理层已经坐不住了，决定针对非内存类先进工艺芯片良品率过低的问题展开调查，将目光锁定在相关部门的现任和前任高管身上，内容包括之前上交的制程良品率报告是否存在错误信息，以及用于提升先进工艺良品率的资金是否得到有效利用。

　　此前三星表示，将在3nm制程节点引入了全新的GAAFET全环绕栅极晶体管工艺，并计划在2022年上半年量产第一代3nm工艺，2023年量产第二代3nm工艺。不过4nm和5nm工艺上出现的诸多问题，让外界对三星的计划普遍持怀疑态度。

　　有业内人士认为，三星电子极可能借此契机，成为其整合集体业务的机会，同时评估相关的财务问题，并审查有关先进工艺良品率方面是否有虚假信息。此外，也有分析师指出，三星此举某程度上说明了半导体工艺在进入5nm及其以下阶段后，研发和制造上会变得非常不容易。

　　三星电子相关负责人表示，这次管理上的审查属于常规操作，目前正在讨论与此有关的日程、内容和关联事项，暂时不便透露太多。